联系我们
|
English
首页
研究室简介
研究领域
研究团队
职员
博士生
硕士生
本科生
毕业生
科研成果
学术论文
学术奖励
发明专利
仪器设备
化学气相沉积设备
物理气相沉积设备
其他制备设备
检测仪器
资料下载
联系我们
当前位置:
首页
>
仪器设备
>
化学气相沉积设备
仪器设备
化学气相沉积设备
物理气相沉积设备
其他制备设备
检测仪器
激光CVD设备
发布时间:2019-06-05 16:50:00
激光CVD设备用于制备外延SiC薄膜
附件下载:
links
武汉理工大学
|
材料复合新技术国家重点实验室
|
日本东北大学金属材料研究所
武汉理工大学西院逸夫楼506室
武汉市洪山区珞狮路122号
Tel: +86-27-87499449
E-mail: turong@whut.edu.cn